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工业气体的分类方法很多种，例如按照气体自身化学成分可分为：硅系、系、磷系、硼系、金属氢化物、卤化物和金属烃化物七类。按照在集成电路中的效果可分为掺杂气体、外延气体、离子注入气体、发光二极管用气体、刻蚀气体、化学气相堆积（CVD）用气体、载运稀释气体七类。一起，以上分类存在交叉，例如四（SiCl4）既属于硅系气体，又属于外延气体，一起在化学气相堆积(CVD)中也存在运用。

集中供气集中供气是一种惰性气体，在空气中所占含量大，约为78%。随着科学技术的发展，集中供气在国民经济的各行各业正日益广泛地应用。集中供气主要用作保护气体、吹扫气体、载气、干燥气体等。在金属热处理工艺过程中集中供气作为保护气体，目的是为提高金属材料、零件的质量、光洁度等。在电子工业中高纯集中供气是半导体集成电路生产工艺不可缺少的保护气、载气。

氮基气氛处理具有节省能源、气源丰富、安全经济、适应性广等优点。业已表明，它已能稳定地用于退火、淬火、渗碳、渗氮等多种热处理工序。为制造出高质量的欧元，制造工艺中所用的钢合金冲模必须经过特别的热处理。集中供气工业集中供气的生产方法主要有空气液化分离精馏法(简称空分法)、水电解法和变压吸附法等。空分法生产集中供气的工艺流程大体是：吸收空气→二氧化碳吸收塔→压缩机→冷却器→干燥器→冷冻机→液化分离器→油分离器→气体储槽→集中供气压缩机→气体充装。其基本原理是将空气液化后，利用空气中各组份沸点的不同在液化分离器进行分离精馏，制取集中供气。